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    干式金屬浴
    干式金屬浴
    點(diǎn)擊數: 發(fā)布日期:19-10-18
    產(chǎn)品品牌: 美國奧豪斯
    產(chǎn)品型號:
    市場(chǎng)價(jià):¥0
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    產(chǎn)品詳情

    多用途干式金屬浴適用于對溫度穩定性有要求的應用。試管與模塊的緊密接觸可以實(shí)現較大的熱量保留,實(shí)現加熱。高功率、固定溫度模擬顯示型號是一種經(jīng)濟型選擇,而數字顯示型號則提供了溫度一致性和穩定性,適合需要可重復結果的試驗。裝置可用40多個(gè)可選互換恒溫模塊。

    • 提供穩定性和一致性溫度

    • 帶有PID微處理器溫度控制的準確快速樣品加熱(數字顯示型號)

    • 數字顯示型號可以根據外部溫度設備進(jìn)行校準

     

    數顯控制干式金屬浴

    數顯控制干式金屬浴

     • 溫度穩定性和一致性

     • 選配外置溫度探

     • 具有可互換模塊

    適用于需要可重復結果和溫度穩定性的應用。這些多用途裝置極 其適合于培養、培養物活化、酶反應、免疫分析、熔點(diǎn)/沸點(diǎn)和諸多其 他實(shí)驗室流程。帶有鎖定旋鈕的內置托桿支座,可容納外置溫度探頭組件。選配外置溫度探頭組件可監視塊或樣品實(shí)際溫度。五種型號均接受 單獨的可互換模塊,適用于不同尺寸試管,從0.2 mL微型管到50 mL離 心試管。每個(gè)模塊上帶有一個(gè)用于測量模塊溫度的溫度計槽。試管與模塊的緊密接觸可以實(shí)現較大的熱量保留,實(shí)現加熱。加熱器需要使 用OHAUS模塊化加熱塊運行。模塊單獨銷(xiāo)售。

    操作特點(diǎn):

    微處理控制器:帶有外置RTD探頭的PID溫度控制裝置,使溫度穩定性 的變化小于± 0.1°C,使溫度均勻性變化也小于± 0.1°C。使樣品快速和準 確升溫。以± 0.1°C增量調節溫度。

    LED顯示屏:通過(guò)觸摸平板進(jìn)行控制,并帶有易于讀取的獨立溫度和時(shí) 間LED顯示屏。始終提供可重復和準確的結果,在實(shí)驗室工作臺即可輕松查看。顯示設定值與實(shí)際溫度。定時(shí)器將顯示已用時(shí)間,也可將其編程為用戶(hù)定義的限值,從而在時(shí)間達到零時(shí)自動(dòng)關(guān)閉裝置。顯示屏將顯示上一次使用的設置,即使斷電后也可顯示。

    溫度校準模式:允許用戶(hù)根據外部溫度設備校準裝置。

    安全保障:

    當心高溫指示器:當溫度超過(guò)40°C時(shí)高溫指示燈自動(dòng)點(diǎn)亮。

    過(guò)溫保護:當超過(guò)設定溫度10°C時(shí),實(shí)驗室設備將自動(dòng)停止加熱。

    警報器:在定時(shí)模式下,當時(shí)間達到零值或設備達到設定溫度時(shí),警報 器將發(fā)出聲音警報。

    當心!為了避免造成觸電危險,請勿用水或其他液體加注槽或加熱塊開(kāi) 口。裝置可用于干浴器/恒溫培養箱。

    工作條件: 裝置可在18至33°C,相對濕度為20%至80%的非冷凝條件下運行。

    應用: 變性蛋白、DNA應用、ELISA和其他免疫分析研究。

    訂貨信息: 裝置帶有一個(gè)可拆3腳插頭。模塊單獨銷(xiāo)售

    數顯控制干式金屬浴技術(shù)參數

     

    模塊控制干式金屬浴

    模塊控制干式金屬浴

    • 多用途

    • 具有可互換模塊

    • 模擬控制

    高功率、固定溫度干式金屬浴經(jīng)濟、靈活且緊湊。這些多用途裝置適合于培養、培養物活化、酶反應、免疫分析、熔點(diǎn)/沸點(diǎn)和諸多其他 實(shí)驗室流程。五種型號均接受單獨的可互換模塊,適用于不同的樣品容 器,如微型管、離心試管、小瓶、微孔板和PCR片條或試管。每個(gè)模塊 上帶有一個(gè)用于測量模塊溫度的溫度計槽。陽(yáng)極氧化鋁模塊提供了溫度穩定性和熱傳輸。加熱器需要使用OHAUS模塊化加熱塊運行。 模塊單獨銷(xiāo)售。

    操作特點(diǎn):

    高功率、固定溫度干式金屬浴經(jīng)濟、靈活且緊湊。

    微處理控制器:PID溫度控制可以實(shí)現溫度的準確控制。使樣品快速和 準確升溫。

    調節旋鈕:雙溫度控制旋鈕帶有從1至10表盤(pán)標記,用于低溫和高溫調 節。低量程旋鈕使用于室溫至100°C的環(huán)境,大量程旋鈕使用于75°C至 150°C的環(huán)境。

    當心!為了避免造成觸電危險,請勿用水或其他液體加注槽或加熱模塊 開(kāi)口。裝置可用于干浴器/恒溫培養箱。

    工作條件: 裝置可在18至33°C,相對濕度為20%至80%的非冷凝條件下運行。 應用: 凝結和RH研究。

    訂貨信息: 裝置帶有一個(gè)可拆3腳插頭。模塊單獨銷(xiāo)售。

    模塊控制干式金屬浴技術(shù)參數

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